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北京751设计师大楼项目

项目地点:北京市朝阳区 建筑面积:4.6万平方米 设计时间:2006年 竣工时间:2011年

项目特点

项目位于北京市电子城高新技术产业开发区的北京正东电子动力 集团有限公司厂区内。为了突出工业历史背景,方案从原来旧建筑群中汲取灵感,采用了保留工业符号的手法,将砖墙、清水混 凝土框架、金属钢架和玻璃幕墙融合在一起,使其形成独特的工业景观。建筑在结构选型设计上采用框架剪力墙结构,使得功能 区域分割灵活。建筑的每个方向都可以充分展示自己的作品,十字街内有充分的绿化和休息空间,为设计师休息创作提供可能。

公共建筑

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